架构师风采
打开 Nephele 时的启动画面，展示的是真实画师的作品——带署名，附主页链接。这就是「架构师风采」：把每一次启动变成一面小画廊，让用 Nephele 的画师被更多人看到。
作品会出现在两个地方：
- 启动画面：每次启动随机展出一幅，新采用的作品会优先亮相；
- 画廊：「关于」页的架构师风采画廊，可以翻阅全部在展作品。
观众把鼠标移到启动画面上，点「认识这位画师」就会跳到你的主页。这是一次展示合作，不是买断——版权始终归你，授权随时可以撤回。
怎么投稿
投稿对所有登录用户开放；持有「架构师凭印」的画师，作品展出时会附上凭印标识。在应用内「关于」页打开架构师风采画廊，点「投稿」：
- 选一幅作品图。原图逐字节直传，不压缩、不重新编码；
- 在预览里拖动构图、滚轮缩放。展示画框是横构图 3:2，裁法由你决定，我们不会替你裁；
- 填署名（必填），主页链接和作品名可选；
- 勾选同意投稿授权条款，提交。
征集标准
- 只收原创作品。 因展示位涉及商业使用，需要完整的权利链，暂不收录未获权利方授权的第三方 IP 衍生作品；纯 AI 生成的作品不在征集范围。
- 投你愿意署名正式发布的完成作品。 过程稿、练习稿建议等它完成之后再来。
- 每位画师同时展出至多 2 幅。 有新作可以替换旧作。
来源核验
每幅入选作品，我们都会用 Nephele 自己的工具核验来源：反向搜图查最早发布记录，主页链接交叉验证。存疑时会请你补充过程材料——分层文件截图、草稿，或过程录制的中途快照。
投稿窗口里有一个「证明材料」上传位：如果你用过程录制记录过这幅画，可以直接从过程档案里选中途快照附上，省去截图。证明材料只用于审核，处理完成后即删除，不会展示。
展示与授权
- 展示始终附署名与主页链接；
- 授权为非独占、可撤回、免费，不构成版权转让；
- 你的作品不会用于任何 AI 模型训练，不会转授权给第三方，也不会单独用作广告主视觉。
完整条款见《「架构师风采」投稿授权条款》。
审核与撤回
投稿后由我们人工审核，结果会回复到你的注册邮箱。
想撤下已展出的作品，在应用内反馈里说一声即可：作品会从分发清单下架，服务器上的文件一并删除，官网同步移除；已分发的客户端在下次启动联网时清掉本地缓存。